TOP

聚酰亚胺薄膜蚀刻粒子跟踪支持
2013-09-03 15:31:45 来源: 作者: 【 】 浏览:89次 评论:0
聚酰亚胺薄膜粒子跟踪蚀刻硅衬底上覆盖着一个土生土长的氧化层进行了研究。制备步骤类似于常见的经典粒子跟踪蚀刻膜生产,上升到自立式膜,成功应用于支持膜。聚酰亚胺薄膜作为起始物料基于模板制备高能离子的扩散。这部电影/膜结构是探讨在不同尺度由掠入射x射线散射在每一个个体摘要制备步骤。此外,用原子力显微镜表征,variable-angle光谱ellipsometry、傅里叶变换红外传输,衰减全反射光谱被执行。一定数量的6±1国立聚酰亚胺膜孔内”,是侦破。毛孔垂直方位和有一个锥形基片表面形状,可以创造出一个略微降低了基质孔隙的大小/电影的界面。
Tags:聚酰亚胺薄膜 责任编辑:dingsheng
】【打印繁体】【投稿】【收藏】 【推荐】【举报】【评论】 【关闭】 【返回顶部
上一篇促进有机蒸汽的敏感性检测以硅块.. 下一篇聚酰亚胺薄膜的合成和性能

公司形象
联系我们
常州市新北区高新科技园三号楼A座308
地址:东莞市大朗镇大井头岭南区56号
电话/传真:0519-88819892
联系人:许先生 手机号:18661245847
E-Mail:xzf811119@me.com
SKYPE:xuzanfeng
QQ:584215893
网站首页 | 产品展示 | 应用行业 | 关于典晟 | 合作伙伴 | 产品报告 | 公司形象 | 选购知识 | 常见问题 | 供求商机 | 新闻动态 | 网络营销 | 在线留言 | 联系我们
办公地址:常州市新北区高新科技园三号楼A座308 工厂地址:东莞市大朗镇大井头岭南区56号 电话/传真:0519-88819892 手机:18661245847
Copyright@http://www.ds-tapes.com all rights reserved 京ICP备050453号 联系人:许先生
Code © 2013-02 技术支持:古道seo  
客服系统